有了胡老，星逸半导体在14纳米，10纳米领域，也有了弯道超车，追赶甚至超越台积电、三星、英特尔的可能！
双方互相成就！
但再往下，那就难了。
一来，7纳米以下的制程需要euv光刻机。
哪怕是多重曝光技术，能够用duv光刻机量产7纳米芯片，甚至5纳米芯片，也需要高端的duv光刻机！
比如1970i，1980di，2000i，以及更高端的机型。
其中，1970i就是底线。
然而，之前星逸半导体买的光刻机，大都是1950i。
由于王逸买得多，每次下单都是几十台，都是上百亿的大单，以及胡老的面子，阿斯麦最近才开始交付1960i。
并且在明年，开始交付1970i！
euv光刻机用了大量的m技术。
阿斯麦会封锁。
但duv光刻机用的m技术不多，也不是最先进的，目前也没有封锁。
哪怕多年后，也只是封锁euv光刻机，以及2000i以上的duv光刻机。
直到2024年，m狗急跳墙，连1970i和1980di都要封杀。
理由就是这两款光刻机通过多重曝光之后，能够实现7nm，甚至5纳米，威胁甚大！
现在的形势就是如此，今年猥琐发育，明年拿到1970i再说。
有了1970i duv光刻机，通过多重曝光技术，就能实现7纳米，甚至5纳米工艺，量产7nm，甚至5纳米芯片！
届时也就彻底无忧了。
至于说后台程序锁死光刻机。
那相当于和夏国彻底翻脸。
阿斯麦可没这个胆量，后果也是他们承担不起的。
实际上，每
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